GB/T 4058-2009 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法

点击我下载

标准编号：GB/T 4058-2009

标准名称：硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法

标准类型：推荐性

标准英文：Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers

标准状态：现行

发布日期：2010-06-01

实施日期：2009-10-30

标准语言：中文

发布部委：

国际分类：电气工程

国内标准分类号：H80

国际标准分类：29.045

技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门：国家标准化管理委员会

标准类别：方法

代替标准：GB/T 4058-1995

起草单位：峨嵋半导体材料厂

起草人：何兰英 王炎 张辉坚刘阳