GB/T 40279-2021 硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法

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标准编号：GB/T 40279-2021

标准名称：硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法

标准类型：推荐性

标准英文：Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method

标准状态：现行

发布日期：2022-03-01

实施日期：2021-08-20

标准语言：中文

发布部委：

国际分类：冶金

国内标准分类号：H21

国际标准分类：77.040

技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门：国家标准化管理委员会

标准类别：方法

代替标准：

起草单位：有研半导体材料有限公司浙江金瑞泓科技股份有限公司中环领先半导体材料有限公司麦斯克电子材料股份有限公司开化县检验检测研究院 山东有研半导体材料有限公司 优尼康科技有限公司 浙江海纳半导体有限公司 翌颖科技（上海）有限公司

起草人：徐继平 宁永铎 张海英 由佰玲 胡晓亮 张雪囡 卢立延孙燕潘金平李扬楼春兰盘健冰