GB/T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范

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标准编号：GB/T 29844-2013

标准名称：用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范

标准类型：推荐性

标准英文：Specifications of metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy

标准状态：现行

发布日期：2014-04-15

实施日期：2013-11-12

标准语言：中文

发布部委：

国际分类：电子学

国内标准分类号：L90

国际标准分类：31.030

技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门：国家标准化管理委员会

标准类别：基础

代替标准：

起草单位：上海华虹NEC电子有限公司

起草人：王雷 伍强 朱骏陈宝钦