YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶
标准编号：YS/T 718-2009
标准名称：平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶
标准状态：现行
发布日期：2009-12-03
实施日期：2010-05-31
标准语言：中文
发布部委：工业和信息化部
行业分类：有色金属
所属部委：工业和信息化部
国内标准分类号：H63
国际标准分类：77.150.99
技术归口：全国有色金属标准化技术委员会
发布部门：工业和信息化部
行业标准：无
制修订：制定
代替标准：
起草单位：利达光电股份有限公司
起草人：李智超、杨太礼 等
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