GB/T 14847-2010 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法

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标准编号：GB/T 14847-2010

标准名称：重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法

标准类型：推荐性

标准英文：Test mothod for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates by infrared reflectance

标准状态：现行

发布日期：2011-10-01

实施日期：2011-01-10

标准语言：中文

发布部委：

国际分类：电气工程

国内标准分类号：H80

国际标准分类：29.045

技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门：国家标准化管理委员会

标准类别：方法

代替标准：GB/T 14847-1993

起草单位：宁波立立电子股份有限公司 信息产业部专用材料质量监督检验中心

起草人：李慎重 何良恩 何秀坤 许峰刘培东